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2023/03/01
品管圈常見問題(六)---應用Why Why分析快速找到原因 作者：陳伯陽
當完成現況掌握的步驟，透過差異分析找到需進一步分析的問題，或是由柏拉圖找到前面占比80%左右的幾個關鍵改善點時，改善步驟進入要因分析階段。
分析工具通常採用Why Why 原因樹分析、特性要因圖(魚骨圖)、關聯圖以及近幾年流行的系統圖。這幾個工具各自有適用的問題情況，選對適當的工具可以提高分析的效果。本文先介紹Why Why 原因樹分析。
進行WHY WHY原因樹分析時可以從三個面象來思考，分別為：
⑴ 流出源：不良品發生的過程和各階段檢查時，為什麼防護措施失效，相關系統沒有偵測到或攔截此問題？
⑵ 發生源：為什麼會發生此不良產品？是什麼原因？
⑶ 系統源：從管理系統的觀點，是否無法阻止流出源或發生源所追究出的根因問題？有提前預防的方法嗎？
在品管圈活動中是專注做問題發生源的分析。適用於有過去問題解決紀錄資料庫或是流程中相關的人員、機器、原料、方法、環境有清楚監測檢驗點的情況。針對現況掌握提出的問題或是關鍵改善點，當成要分析的對象，開展畫出樹狀圖。方法是先判斷類似的現象是否以前曾出現過，馬上循著因果關係，探詢下一層的原因，並進入資料庫驗證有無相關紀錄，如此不斷繼續往下探詢。如果現象以前沒有發生過，探詢下一層的原因時，儘量以類似發生過的原因來探討。各層原因的思考原則就是要”能客觀驗證”，不是天馬行空。
例如晶片的缺角是要分析的主角，如果缺角的現象在資料庫中查到以前有因人員搬動造成、機器運轉不順造成、容器尺寸不洽當造成，那麼繼續針對這三項的紀錄追查其原因，直到沒有紀錄可以深究。
如果以前沒發生過缺角或是曾發生過但沒有分析的紀錄，那麼從跟缺角類似現象的是晶片髒污去蒐尋資料庫，因為都是晶片表面受損，不是電路電性或原料問題。若完全都沒有這方面的相關資料，就改從現有的監測點的檢查項目來思考。例如缺角大多在哪一站點被發現。
畫好的Why Why 原因樹，每個枝幹都是來自資料庫中的實際紀錄或是生產和流程相關檢查項目，所以都算是要因。驗證真因時要應用三現原則，到「現場」，「實際的查對」，「相關現象」，從真實的數據中找到佔比較多的要因，同樣可以用80/20原則選出項目當真因，或是應用其他原則來選擇真因。有些顧問老師主張只要某要因在現場被驗證發現，就該列入真因。這可以由圈員討論是否有足夠的時間去一一找出對策。
結語：
Why why分析是最接近經驗豐富的員工腦中的分析方式，這些員工腦中有個資料庫，主動聚焦在發生過或可能發生而且可以檢驗的原因，自動忽略了無法檢查或很難相信的原因。這項工具的好處是分析的速度很快，所以也常運用在客訴處理的場合，缺點是會陷入集體的思考誤區。例如當材料供應商是國際知名大廠，是免檢入庫的廠商時，若應用Why Why分析，很容易心裏就自動排除對其材料品質的懷疑，忽略了這位廠商可能是造成品質不良的原因，
WHY WHY原因樹分析要做的好，要仰賴平時有很完整的資料庫。員工會把每次處理的過程和分析結果記錄下來，成為知識管理的一環，久而久之就變成公司重要的資產。